電子半導體工業電子加速，光電器件，電子材料，射線管，晶體，繼電器，激光，離子注入裝置，離子蝕刻機，化學氣相沉積設備，物理氣相沉積裝置，分子束外延裝置，集成電路封裝，像其他半導體應用。分別蒸發，濺射，PECVD，真空干蝕刻，真空抽吸，測試設備，漫游器，自動真空清潔并在真空（高真空）所需的貼合工序等;室內真空（低真空）;處理真空（低真空）的真空泵以及回流的部分在真空空間是零，為了從污染保護工件。技術工程師隊共享電子半導體行業應用。
一，根據在真空中的分類
用于生產真空（高真空）
1，主要由高真空采用真空，以減少工作空間中的空氣，保持清潔的工作空間內產生，主要的類型中使用的真空泵包括干（干式螺桿真空泵，爪泵）和它們的分子泵機組。
技術真空（粗真空）
2，主要技術真空負壓或抽吸，用于保持工件搬運，螺桿泵，爪式泵，水泵和干泵，旋轉葉片泵，微螺桿泵。
真空清潔（粗加工）
3，大氣壓力和真空吸力以清除或輸送液體或顆粒，這樣的應用主要是水環泵和多級離心式風扇之間的清潔主要區別。
二，根據真空泵的類型
早些時候，油泵真空泵在半導體工業型，高真空的主要特征是常用的，以滿足新的產業，旋轉式泵之間和往復泵為主要代表的特殊要求。因為他們不能泵水蒸汽和冷凝的氣體和腐蝕氣體容易限制，而是用真空泵，以提高生產技術的發展，有利于清洗的;安全;穿;低成本;維修方便;性能穩定;振動小，干式真空泵的低噪聲的優點，半導體工業，以滿足工藝要求。
1，圓裂片，爪式，模塊化（羅茨+爪式），螺桿。這些類型廣泛地被不同的制造商使用。其中，所述瓣型，和模塊化爪（爪+根）被稱為多級泵。操作方式是基本相同的，則重復氣體的壓縮來創建使用多級真空室中的真空。
三，根據真空系統
真空系統是由真空泵套，PLC的過程控制系統，圓柱體，真空管線，真空閥，過濾器組件的外部，和其他組件的真空系統。該系統被廣泛應用于電子半導體工業中，光學光模塊，機械加工等行業。
四，半導體工業真空系統
電子半導體行業需要真空系統可分為三個層次。
1，在吸力下，空氣或空氣清潔條件僅含有排出水蒸氣一點。
2，在溫和條件下的排氣，將反應氣體的其它提取方法，沒有固體顆粒。
3，在吸力下的苛刻條件，泵送化學反應物（毒性和致癌甚至）和固體顆粒。
五，半導體真空泵的應用安全事項
1，真空泵，以防止過熱：
這是比較容易理解，在半導體中的真空泵，更有害氣體的應用，并且兩個干式真空泵或機械泵密封，泵室溫度過高，炸藥和在高溫下的有毒氣體將存在危險。
2，注意氧在真空中的濃度：
空氣中的氧燃燒和爆炸的危險可能發生在高濃度。在某些情況下，應該注意的是氧氣的濃度，稀釋的惰性氣體，以防止濃度過高;一個機械泵密封可能需要一些惰性的，與氧氣，真空泵油相容，并且更換油過濾器和油的假設。
3，一個半導體泵有效淡化的有害氣體的濃度：
半導體容易產生上述的炸藥，有毒有害氣體。因此，當半導體真空應用到提取這些媒體必須防止一些不可控它們在排氣過程或真空泵反應。如的SiH4，PH3，砷化氫，B 2 H 6等物質，當與空氣或氧氣接觸可能引起爆炸或燃燒;氫燃燒可以發生在空氣的混合比和溫度達到一定的水平。的壓力的量取決于材料和環境溫度關系。萃取介質期間用惰性氣體，如氮氣。因此這些半導體泵，即氣體被壓縮之前的時間條件下稀釋到一個安全范圍內。
4，真空泵和其它附件，過濾器，管，避免過壓的定期清洗：
真空半導體應用期間，通過用真空泵將反應室中的萃取介質中，成分可以作為泵口形成SiH4和O2的SiO 2，四氯化鈦的水解將形成HCI是極其復雜的，例如;假設油封機械泵，這些氣態物種可以和抗油泵的發生。這些假設改變形式的顆粒，或可冷凝物的腐蝕性介質，或真空泵可能堵塞管道系統，影響真空泵的性能，從而導致增加的壓力或超壓，稍微上述危險更大。因此，需要及時清理，并必要時設置過濾設備。