眾所周知，半導體工藝水平決定了晶體管尺寸大小。在半導體廠或光電廠中，真空系統應用于提供制程設備的真空吸盤或吸筆來搬運傳送晶片或玻璃，為半導體制程中相當重要之支援系統。本篇文章涉及半導體制程技術領域，在介紹真空系統在半導體制程中的應用之前，打算先對半導體制程和真空系統做些簡單的介紹。
在真空系統中，真空針對大氣而言，表示一特定空間或系統內部分氣體被排出，其內部空間的壓力小于大氣壓力，則稱此空間為真空或為真空狀態，簡單言之，空間內壓力低于一大氣壓力即為真空。在高科技制程中所要求的高真空或超高真空，就必須要有足夠的真空技術或設備才能達成。
半導體制程專用真空系統的真空度要求一般為700-~500mmHg之間，僅落在粗略真空范圍內，而制程設備真空度要求則視其應用范圍而定，而落在中真空度與超高真空度或以上之范圍。
不同類型的真空泵組合而成的系統，真空度也有所不一樣，關于真空系統的類型，整理出幾大類。
1.低真空系統
2.中真空系統
①由羅茨泵為主泵串聯機械泵而構成的系統;
②由油增壓泵為主泵串聯機械泵而構成的系統;
③由羅茨泵串聯小羅茨泵，再串聯機械泵而構成的系統。
3.高真空系統
①由擴散泵為主泵串聯羅茨泵，再串聯機械泵而構成的系統;
②由擴散泵為主泵串聯機械泵而構成的真空系統;
③由擴散泵為主泵串聯油增壓泵，再串聯機械泵而構成的真空系統。
上述的內容，在半導體制造過程中，是選擇高真空系統的應用的最佳方法中，在高真空系統可以是不同的真空設備的組合在一起。
事實上一個簡單的真空系統只能夠獲得粗真空，并且期望得到高的真空，典型地串聯在真空系統中的高真空泵，如羅茨泵螺桿泵得到和高真空泵。當串聯連接的高真空泵，通常與入口和出口閥在高真空泵相結合，高真空泵單獨保持真空。如果一系列高真空泵是油擴散泵，以防止回流到容器被抽空大量油蒸氣的，通常是在擴散泵油的入口添加陷阱
- 水冷擋板。該請求還可以增加一個線路濾波器，真空計頭繼電器，連接真空泵吹掃閥入口，散熱器等的真空軟管，這構成了更完整的高真空系統。